八五年，机电部（如今的工y部）45所研制成功分步光刻机样机，中k院沪海光学精密机械研究所研制的“扫描式投影光刻机“通过鉴定，采用的都是436纳米g线光源，制程工艺达到1.5um，认为均达到g制程工艺的光刻机，正在研制8英寸晶圆和350nm制程工艺的光刻机；其他国外主流光刻机公司批量生产6英寸晶圆和800nm制程工艺的光刻机，正在研制8英寸晶圆和500nm制程工艺的光刻机。
bsel垄断！
赢者通吃！
由于asml效益不佳，年年亏损，去年九月，飞利浦半导体公司将其持有的30%asml股份，以2000万美元的价格转让给曙光投资公司，让曙光投资公司控股。